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EK77西格里石墨EK77潤滑石墨板細結構石墨，銅的熔點是1080℃，而石墨是3650℃石墨的 CTE只有銅1/30。它是即使在超高溫的情況下性能也非常穩定。即便在鉑電極的加工中，石墨電極也有明顯的優勢。
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EK77西格里石墨EK77潤滑石墨板細結構石墨
含碳量高高純石墨含碳量>99.99%，滿足了工業領域采用高純石墨含碳量的高標準。人工合成的高純石墨純度更高，粒徑更小，厚度處在納米尺度范圍內，但其徑向寬度可以達到數個到數十個微米，具有超大的形狀比。晶體結構完整/浙江群英石墨保持了石墨原有的平面型碳六元環共軛晶體結構，具有優異的機械強度、導電、導熱性能，以及良好的潤滑、耐高溫和抗腐蝕特性。應用前景廣泛高質量的高純石墨, 作為替代性材料, 在高科技、新技術領域有著寬廣的應用空間, 具有廣泛的應用前景。高純模壓石墨還具有其他良好的性能，如：強度高 抗熱震性好抗氧化抗腐蝕性電阻系數小性能穩定易于精密機加工
EK77西格里石墨EK77潤滑石墨板細結構石墨
高純石墨
高純石墨一般指含碳量在99.99%以上的石 墨，在組織結構上可分為粗顆粒結構、細顆粒結構和超細顆粒結構三類，高純石墨大量用于直拉單晶硅爐中。集成電路的基礎材料主要是硅單晶芯片，目前硅單晶的成長工藝主要采用直拉法，其他方法還有磁場直拉法、區域法以及雙坩堝拉晶法，直拉單晶硅爐中的石墨件是消耗品，采用高純石墨材料加工成直拉單晶硅爐的加熱系統。
高純石墨另一重要用途是加工成各類坩堝，用于生產貴金屬、稀有金屬或高純金屬、非金屬材料。光譜分析用石墨電極也是一種高純石墨，可用于除碳元素以外的所有元素的光譜化學分析，光譜分析用石墨電極用擠壓方法成型。成品的雜質元素含量應不大于6*10-5。在光譜分析中制備標準樣品和用化學方法捕集雜質時需用光譜純炭粉或光譜純石墨粉，這兩種高純材料對雜質含量的要求都是在6*10-5；在某些用途方面，需要含碳量達到99.9995%，總灰分含量小于5*10-6。高純石墨的成型方法有擠壓成型、模壓成型及等靜壓成型三種。
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